光刻胶-膜厚

行业痛点
光刻胶旋涂不均，将带来一系列问题，如曝光剂量失配、显影与刻蚀问题，最终导致线宽差异、图形缺陷，甚至器件功能失效。

解决方案
反射式膜厚仪精准测量光刻胶的旋涂均匀性，实现工艺监控优化。

核心价值
✅无损：非接触式测量，不损坏样品。
✅精度：0.1nm精度、可生成3D热力视图。
✅效率：单点检测速度＜1s。

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